자료유형 | 단행본 |
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서명/저자사항 | 저 소비형 반도체 웨이퍼 wet cleaning 공정기술 개발= Development of the low consumable wet cleaning process technology for the semiconductor wafer/ 산업자원부 [편]. |
개인저자 | 손 영수. |
단체저자명 | 한국. 산업자원부. 한국기계연구원. |
발행사항 | 과천: 산업자원부, 2004. |
형태사항 | 110 p.: 삽화; 30 cm. |
총서사항 | 에너지·자원기술개발사업. |
보고서번호 | 2002-E-ID02-P-06BSM122-1087.M |
일반주기 |
산업자원부에서 시행한 에너지·자원기술개발사업의 최종보고서임
주관연구기관명: 한국기계연구원, 수행책임자: 손영수 |
서지주기 | 참고문헌: p. 110 |
비통제주제어 | 반도체 습식세정,반도체 웨이퍼,오존수 |
분류기호(DDC) | 621.38152 |
언어 | 한국어 |
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No. | 등록번호 | 청구기호 | 소장처 | 밀집번호 | 도서상태 | 반납예정일 | 예약 | 서비스 | 매체정보 |
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1 | 811304 | 621.38152 한17ㅈㅅ 2004-6 | 중앙도서관[본관]/밀집서고/ | Z1096197 | 대출가능 |