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plasma etching
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etching
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주제
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plasma etching
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etching
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icp
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journal of the korean institute of surface engineering
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acs applied materials & interfaces
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acs applied materials interfaces
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출판사
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elsevier b.v.
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the korean institute of electrical and electronic material engineers
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Crossover from weak anti-localization to weak localization in inkjet-printed Ti3C2Tx MXene thin-film
학술저널
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Advances in nano research
. 2022 13(3):259-267
Author
Jin, Mi-Jin
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Robinson, J. W. A.
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Dry Etching of $Al_2O_3$ Thin Film in Inductively Coupled Plasma
회의자료
issue
한국전기전자재료학회 2009년도 추계학술대회 논문집 Vol.22
. 2009 2009:67-67
Author
Xue, Yang
Um, Doo-Seung
Kim, Chang-Il
DB Label
Database : KoreaScience
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Open Access (KoreaScience)
3
유도결합 플라즈마를 이용한 $HfAlO_3$ 박막의 식각특성 연구
Study of etching properties of the $HfAlO_3$ thin film using the inductively coupled plasma
회의자료
issue
한국전기전자재료학회 2009년도 하계학술대회 논문집 Vol.10
. 2009 2009:73-73
Author
하태경
김동표
우종창
엄두승
양설
주영희
김창일
Ha, Tae-Kyung
Kim, Dong-Pyo
Woo, Jong-Chang
Um, Doo-Seung
Yang, Xue
Joo, Young-Hee
Kim, Chang-Il
DB Label
Database : KoreaScience
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Open Access (KoreaScience)
4
유도결합 플라즈마를 이용한 TiN 박막의 식각 특성 연구
The etch characteristic of TiN thin films by using inductively coupled plasma
회의자료
issue
한국전기전자재료학회 2009년도 하계학술대회 논문집 Vol.10
. 2009 2009:74-74
Author
Park, Jung-Soo
Kim, Dong-Pyo
Um, Doo-Seung
Woo, Jong-Chang
Heo, Kyung-Moo
Wi, Jae-Hyung
Kim, Chang-Il
박정수
김동표
엄두승
우종창
허경무
위재형
김창일
DB Label
Database : KoreaScience
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Open Access (KoreaScience)
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The surface kinetic properties of $ZrO_2$ Thin Films in dry etching by Inductively Coupled Plasma
회의자료
issue
한국전기전자재료학회 2009년도 하계학술대회 논문집 Vol.10
. 2009 2009:105-105
Author
Yang-Xue, Yang-Xue
Kim, Hwan-Jun
Kim, Dong-Pyo
Um, Doo-Seung
Woo, Jong-Chang
Kim, Chang-Il
DB Label
Database : KoreaScience
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Open Access (KoreaScience)
6
유도결합플라즈마를 이용한 TaN 박막의 식각 특성
Etching Property of the TaN Thin Film using an Inductively Coupled Plasma
회의자료
issue
한국전기전자재료학회 2009년도 하계학술대회 논문집 Vol.10
. 2009 2009:104-104
Author
Um, Doo-Seung
Woo, Jong-Chang
Kim, Dong-Pyo
Kim, Chang-Il
엄두승
우종창
김동표
김창일
DB Label
Database : KoreaScience
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Open Access (KoreaScience)
7
$BCl_3/Ar/Cl_2$ 유도결합 플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각특성 연구
Etch characteristics of ZnO thin films using an inductively coupled plasma
회의자료
issue
한국전기전자재료학회 2009년도 하계학술대회 논문집 Vol.10
. 2009 2009:135-136
Author
Woo, Jong-Chang
Um, Doo-Seung
Yang, Xuel
Heo, Keyong-Moo
Park, Jung-Soo
Ha, Tae-Kyung
Wi, Jae-Hyung
Joo, Young-Hee
Kim, Dong-Pyo
Kim, Chang-Il
우종창
엄두승
양설
허경무
박정수
하태경
위재형
주영희
김동표
김창일
DB Label
Database : KoreaScience
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Open Access (KoreaScience)
8
$CH_4$/Ar 유도 결합 플라즈마를 이용한 Sapphire 기판의 식각 특성
Etching properties of sapphire substrate using $CH_4$/Ar inductively coupled plasma
회의자료
issue
한국전기전자재료학회 2008년도 추계학술대회 논문집 Vol.21
. 2008 2008:102-102
Author
Um, Doo-Seung
Kim, Gwan-Ha
Kim, Dong-Pyo
Yang, Xue
Kim, Chang-Il
엄두승
김관하
김동표
양설
김창일
DB Label
Database : KoreaScience
원문보기
Open Access (KoreaScience)
9
$Cl_2/BCl_3$/Ar 유도 결합 플라즈마에서 온도에 따른 $ZrO_2$ 박막의 식각
Temperature Dependence on Dry Etching of $ZrO_2$ Thin Films in $Cl_2/BCl_3$/Ar Inductively Coupled Plasma
회의자료
issue
한국전기전자재료학회 2008년도 추계학술대회 논문집 Vol.21
. 2008 2008:145-145
Author
Yang, Xue
Kim, Dong-Pyo
Lee, Cheol-In
Um, Doo-Seung
Kim, Chang-Il
양설
김동표
이철인
엄두승
김창일
DB Label
Database : KoreaScience
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Open Access (KoreaScience)
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$BCl_3$/Ar 플라즈마에서 $Cl_2$ 첨가에 따른 TiN 박막의 식각 특성
Etch characteristics of TiN thin film adding $Cl_2$ in $BCl_3$/Ar Plasma
회의자료
issue
한국전기전자재료학회 2008년도 하계학술대회 논문집 Vol.9
. 2008 2008:168-168
Author
Um, Doo-Seung
Kang, Chan-Min
Yang, Xue
Kim, Dong-Pyo
Kim, Chang-Il
엄두승
강찬민
양설
김동표
김창일
DB Label
Database : KoreaScience
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강릉대학교 도서관
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건국대학교 상허기념도서관
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